- トップページ
- /
- 企業情報
企業情報
ご挨拶
社会に貢献できる企業を目指し、価値ある存在でありつづけなければなりません。
弊社が社訓として掲げる「価値ある存在」は、創立以来の精神です。
私たちは皆様から頼りにされる企業を目標に、開発から製造まで、ソフトウェアからハードウェアまで多様な人材を抱える総合装置メーカーです。高圧から真空・高温から低温・高湿から低湿まで、そしてその他の環境要素を高度に組み合わせた制御技術を駆使して、半導体環境試験装置・液晶ディスプレイの製造装置・含浸装置等を開発し世界にお届けして参りました。
ますます多様化・高度化していく２１世紀テクノロジーは，私たちに新たな夢とチャンスを与えてくれます。
今後とも、「価値ある存在」でありつづけることに誇りと情熱を持って、さらなる飛躍を目指して参ります。
代表取締役社長 小林 太
会社概要
当社は圧力・温度・湿度等の総合的制御により社会に有用な装置を開発・設計・製造・販売を行うエンジニアリング会社です。特に高い圧力がかかり、製造許可が厳しい高圧力利用装置の開発・設計・製造に独自性があります。それに関連する実用的特許も多数保有しております。 圧力、温度、湿度をコントロールする装置については、物理的な制御をするための空間として、装置に常に容器が必要となります。この容器は特に「圧力」制御を必要とする場合、広範囲に危険を伴うため、多くの国で法律の適用を受けます。そのため、専門的技術及び技能力が必要とされます。ここに経験豊富な当社の優位性があります。当社はその装置がCEマーキングの認証を得ました。
事業所案内
沿革
- 1982年10月
- 資本金300万円で設立
- 1983年 1月
- 半導体試験装置プレッシャークッカーを発売
- 1986年12月
- 西ドイツ連邦安全協会型式認定を取得
- 1988年11月
- 株式会社に組織変更・資本金1000万円
- 1990年10月
- 300Kg/cm2第一種圧力容器製造認可
- 1992年 2月
- 高圧燃料供給装置発売
- 1992年11月
- 真空加圧ホットプレス発売
- 1994年10月
- 液晶注入装置発売
- 1996年 4月
- 有機物乾留用高温圧力容器発売(800℃,300kgf/cm2)
- 1996年10月
- 高圧ガス供給設備発売(450 kgf/cm2)
- 1997年 4月
- 真空・加熱処理方式および装置に関する特許取得
- 1998年 6月
- 本社新工場完成
- 1997年 5月
- 真空高圧室シール手段に関する特許取得
- 1999年 6月
- 第三者割当増資により資本金4000万円
- 1999年 6月
- 財団法人埼玉県創造的企業投資育成財団の投資決定
- 1999年10月
- 本蓮工場が稼動して生産能力が4倍になる
- 1999年12月
- 通産省より特定新規事業法に基づき新規事業認定取得
- 2000年 2月
- 大蔵省・通産省共管の新規事業投資株式会社等の出資により資本金6500万円
- 2000年 2月
- 大蔵省・通産省共管の特別認可法人産業基盤整備基金による債務保証決定
- 2000年 3月
- 第三者割当増資により資本金1億6125万円
- 2000年10月
- 本蓮南工場・環境制御技術研究所完成
- 2001年 5月
- 第三者割当増資により資本金2億2369万円
- 2002年 4月
- 台湾における顧客開拓のため、台湾事務所を開設
- 2003年 2月
- 第三者割当増資により資本金3億1824万円
- 2004年 7月
- 中国ボイラー及び圧力容器製造許可(ML)を取得
- 2005年 7月
- NEDOより「大型ガラス基盤気流搬送装置の実用化開発」が産業技術実用化開発助成事業に採択
- 2005年11月
- 関西事業所(三重工場)完成
- 2005年11月
- CEマーキングの認証取得
- 2006年11月
- 増資により資本金3億4026万円
- 2011年10月
- 減資により資本金1億円